LMGP - Recherche Equipe NanoMAT

Caractérisations In Situ/Operando

L'axe Caractérisations In Situ/Operando comporte deux thèmes. Le premier a pour objectif de maîtriser la croissance et la cristallisation de films ultra-minces et de nanostructures (oxydes, sulfures), par la connaissance des mécanismes à l’échelle atomique et nanométrique. Pour cela, nous développons et utilisons des instruments et des méthodes expérimentales spécifiques afin d’obtenir des informations chimiques, spectroscopiques, structurales et optiques en cours et dès les premiers stades de la croissance (ellipsométrie, analyse de gaz résiduel, rayonnement synchrotron). Les procédés ciblés sont le dépôt alterné de couches atomiques (ALD), ainsi que les dépôts chimiques en phase vapeur (MOCVD) et en bain (CBD). Le second thème rassemble les caractérisations chimiques et structurales avancées de nanostructures et nanomatériaux, pratiquées ex situ (après fabrication) ou in situ quand il s’agit d’étudier l’effet d’une sollicitation externe (température, recuit sous atmosphère contrôlée, champs électromagnétiques, forces électrochimiques,....), ou operando. Les techniques expérimentales principalement utilisées sont la microscopie électronique à transmission, la spectroscopie Raman, la diffusion des rayons X, la spectroscopie d’absorption X, la diffraction anomale de rayons X, et les spectroscopies de photoélectrons.
 

Personnel non permanent

Oumaima Daoudi (PhD)

5 publications sélectionnées

[5] V. Skopin et al. Nanoscale 10, 11585 (2018)
The Initital Stages of ZnO Atomic Layer Deposition on Atomically Flat In0.53Ga0.47As Substrates

[4] R. Parize et al. Materials & Design 121, 1 (2017)
In Situ Analysis of the Crystallization Process of Sb2S3 Thin Films by Raman Scattering and X-Ray Diffraction

[3] S. Guillemin et al. Nanotechnology 28, 095704 (2017)
Quantitative and Simultaneous Analysis of the Polarity of Polycrystalline ZnO Seed Layers and Related Nanowires Grown by Wet Chemical Deposition

[2] R. Boichot et al. Chemistry of Materials 28, 592 (2016)
Evolution of Crystal Structure During the Initial Stages of ZnO Atomic Layer Deposition

[1] M.-H. Chu et al. Crystal Growth & Design 16, 5339 (2016)
An Atomistic View of the Incipient Growth of Zinc Oxide Nanolayers

Articles de revue

H. Renevier et al. International Tables for Crystallography I, to be published
Diffraction Anomalous Fine Structure: Basic Formalism

H. Renevier et al. International Tables for Crystallography I, to be published
Diffraction Anomalous Fine Structure: Experiment and Data Analysis

Projets

ANR ULTiMeD (2019-2022, coordinateur)
Type : Agence Nationale de la Recherche, appel PRC
Titre : Contrôle à l'échelle atomique de couches ultra-minces 2D de dichalcogénures par une voie de dépôt par couche moléculaire
Partenaires : IPVF (Palaiseau), C2P2 (Villeurbanne), Synchrotron SOLEIL (Saint-Aubin)

ANR EMOUVAN (2016-2019, partenaire)
Type : Agence Nationale de la Recherche, appel PRC
Titre : Emission de lumière UV avec des nanofils
Partenaires : Institut Néel (Grenoble), LPS (Orsay), L2C (Montpellier), INAC (Grenoble)

VIGOS (2016-2017, coordinateur)
Type : Labex MINOS
Titre : Visualiser la croissance de couches ultra-minces de ZnO sur InGaAs pour maîtriser la résistivité de contact
Partenaire : Communauté Université Grenoble Alpes
 

Collaborations nationales & internationales

  • CEA, IRIG, Grenoble
  • CEA, LETI, Grenoble
  • BM2-D2AM, ESRF, Grenoble
  • C2P2, Villeurbanne
  • IPVF, Palaiseau
  • IN2MP, Marseille
  • Synchrotron SOLEIL, Saint-Aubin
 
  • ENA, Espagne
  • Laboratoire National d'Argonne, USA