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Synthèse et propriétés de monocristaux, de poudres, films minces ou hétérostructures

Etudes à l'interface avec la matière biologique
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Parution d'un chapitre sur la SALD

Publié le 5 février 2019
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Publication - Parution du 1 janvier 2019 au 1 septembre 2019

Le chapitre "Spatial Atomic Layer Deposition" fait partie du livre Open access Chemical Vapor Deposition for Nanotechnology

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Le volume  Chemical Vapor Deposition for Nanotechnology présente plusieurs aspects techniques et scientifiques concernant les méthodes chimiques en phase vapeur







La technique de SALD développée au LMGP est présentée dans la chapitre 1, ce texte a été rédigé par David Muñoz-Rojas, Viet Huong Nguyen, César Masse de la HuertaCarmen Jiménez et  Daniel Bellet



Pour plus d'information consultez la page web
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mise à jour le 5 février 2019

  • Tutelle CNRS
  • Tutelle Grenoble INP
Univ. Grenoble Alpes